北京華科易通分析儀器(qi)有(you)限公(gong)司，是電鍍液雜質分析ICP光譜儀的(de)專業(ye)制造廠商。它是(shi)集科研、生產、銷售、技術(shu)服務于一(yi)體的(de)高科技企(qi)業(ye)。HK-2000型電鍍液雜質分析ICP光譜儀，是我公(gong)司在現有技術(shu)的基礎上，吸收技術(shu)成果(guo)研制開(kai)發的產品。

（ICP-AES/OES），主要用于微量/痕量元素的分析，可分析的元素為大(da)多數的金屬和硅，磷等(deng)少量的非金屬，共72種。廣(guang)泛應(ying)用于(yu)稀土(tu)、貴金(jin)屬、合金(jin)材(cai)料、電子(zi)產品(pin)、醫藥衛生(sheng)、冶金(jin)、地質(zhi)、石油、化工、商檢、環(huan)保(bao)以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等(deng)行(xing)業分(fen)析檢測，可對待測樣品(pin)進行(xing)定性或從超微量到(dao)常(chang)量的(de)定量分(fen)析。

一、儀器整機(ji)主要性能參數：

1、波長范(fan)圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵）；

2、分(fen)辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵(zha)）或0.01nm（2400L/mm光柵）；

3、波長(chang)示值誤差和重復(fu)性：波長(chang)示值誤差≤0.02nm，重復(fu)性≤0.003nm；

4、掃(sao)描步距：0.0004nm；

5、重復性：RSD≤1.0%；

6、穩定性：RSD≤1.5%；

7、檢出限：ppb級；

8、分析元素范圍：70余種金(jin)屬(shu)與非金(jin)屬(shu)元素；

9、線(xian)性范圍(wei)：7個數(shu)量(liang)級以上，且自(zi)吸(xi)效(xiao)應極低(di)；

10、分析速度：每分鐘掃(sao)描zui快達(da)25個(ge)元素以上(shang)；

11、等級(ji)證書：國家計量器具型式許可A級（且(qie)遠(yuan)優于A級）。

12、必須有生產(chan)許可證：且規格要求(qiu)滿足，測量(liang)范圍(wei)：190-500nm

13 規格大小：長寬高：1.5mＸ0.60mＸ1.2m  立式儀器方便推挪(nuo)，免裝試(shi)驗臺*

14 配智能冷卻循環水(shui)箱(xiang)(YT-1800)

15 配電腦(nao)聯(lian)想

16 配惠普激光打印機

二、儀器各部件詳細參數：

射(she)頻(pin)發生器（RF）

（1）電路類型：電感反饋自(zi)激式(shi)振蕩電路、同軸(zhou)電纜(lan)輸(shu)出、匹配調諧、取功率反饋信號，進行閉環自(zi)動控制；

（2）工作頻率：40.68MHz±0.05%；

（3）頻率穩定性：≤0.05%；

（4）輸(shu)出(chu)功率：800～1200W；

分光器

（1）光路：Czerny－Turner；

（2）焦距：1000mm；

（3）光柵(zha)規格：離子刻蝕全息光柵(zha)；

（4）分光器(qi)恒溫裝置：26℃±1℃。

測光(guang)裝置

（1）光電倍增管規格：R212UH或R928；

（2）測光方式：單、多元素順序測量。

操(cao)作軟件：

（1）操(cao)作系統：Windows XP 操作平臺；

（2）測定波長數：任意選擇；

（3）分析速度：每分鐘(zhong)zui快(kuai)25個元素以上；

（4）數據庫：譜線庫11萬條以(yi)上；

（5）多窗口：在測量完一次結果后可以在顯示窗口保留上次結果同時、測量下一樣品；

（6）標(biao)準(zhun)加(jia)入法(fa)(fa)：軟件(jian)要有標(biao)準(zhun)加(jia)入法(fa)(fa)，以便在不同條件(jian)和(he)應用(yong)中下使用(yong)；

（7）分析模式：軟件默認*分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式，單位任選等多種功能；

（8）歷史數據庫：在歷史數據庫中(zhong)，可(ke)以(yi)同時可(ke)選擇性地打印(yin)想要打印(yin)的批次分析結果；

（9）數據(ju)輸出：軟件支持激光打印機打印分析結(jie)果。

（10）語言：可中(zhong)英文雙語