北京華科易通分析儀(yi)器有限公(gong)司，是高純硅分析等離子體發射光譜儀的專業制造廠(chang)商。它是集科(ke)研、生(sheng)產、銷(xiao)售、技(ji)術(shu)服(fu)務于一體(ti)的高科(ke)技(ji)企業。HK-2000型高純硅分析等離子體發射光譜儀，是我公(gong)司在現有技(ji)術(shu)的基礎上，吸(xi)收技(ji)術(shu)成(cheng)果研制開(kai)發的產品。

（ICP-AES/OES），主要用于微量/痕量元素(su)的分(fen)析，可(ke)分(fen)析的元素(su)為大(da)多(duo)數的金屬和硅(gui)，磷等(deng)少量的非(fei)金屬，共72種。廣泛應(ying)用于(yu)稀土、貴金(jin)屬(shu)、合(he)金(jin)材料、電(dian)子(zi)產品、醫藥衛生、冶(ye)金(jin)、地(di)質、石(shi)油、化(hua)工、商檢、環(huan)保(bao)以及釹鐵(tie)硼、硅、硅鐵(tie)、鎢(wu)、鉬等行(xing)業分析(xi)(xi)檢測(ce)，可對(dui)待測(ce)樣品進(jin)行(xing)定性或從(cong)超微量(liang)到常量(liang)的(de)定量(liang)分析(xi)(xi)。

一(yi)、儀器整機主(zhu)要性能參數：

1、波長范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光(guang)柵）；

2、分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵(zha)）；

3、波長示值誤差和重(zhong)復性：波長示值誤差≤0.02nm，重復性(xing)≤0.003nm；

4、掃描(miao)步(bu)距：0.0004nm；

5、重復性：RSD≤1.0%；

6、穩定(ding)性：RSD≤1.5%；

7、檢出限：ppb級；

8、分析元素范(fan)圍：70余(yu)種金屬(shu)(shu)與非金屬(shu)(shu)元素；

9、線性范圍：7個數量級(ji)以上，且自(zi)吸(xi)效應極低；

10、分析速度：每分鐘(zhong)掃描zui快達25個元素(su)以上；

11、等(deng)級證(zheng)書(shu)：國(guo)家計量(liang)器具型式許可A級（且遠優于A級）。

12、必須有(you)生產許可證：且規格要(yao)求(qiu)滿足(zu)，測量范(fan)圍：190-500nm

13 規格(ge)大小：長寬高：1.5mＸ0.60mＸ1.2m  立式儀(yi)器方便推(tui)挪，免裝試驗臺*

二、儀(yi)器各部件詳細參數(shu)：

射頻發生器（RF）

（1）電路類型：電感反(fan)饋(kui)自激式振蕩電路、同軸電纜(lan)輸出、匹配(pei)調諧、取功率(lv)反(fan)饋(kui)信(xin)號(hao)，進行閉(bi)環(huan)自動(dong)控制(zhi)；

（2）工作頻率：40.68MHz±0.05%；

（3）頻(pin)率穩定性：≤0.05%；

（4）輸出功率(lv)：800～1200W；

分光(guang)器

（1）光路：Czerny－Turner；

（2）焦距：1000mm；

（3）光柵規格：離子刻蝕全息光柵；

（4）分光器恒溫(wen)裝置：26℃±1℃。

測光裝置

（1）光電倍增管規格：R212UH或(huo)R928；

（2）測光方式：單、多元素順序測量。

操作(zuo)軟(ruan)件(jian)：

（1）操作系統：Windows XP 操作平臺(tai)；

（2）測定波長數：任意選擇；

（3）分(fen)析速度：每分(fen)鐘(zhong)zui快25個元素以上；

（4）數據庫：譜線庫11萬(wan)條以上；

（5）多窗口：在測量完一次結果后可以在顯示窗口保留上次結果同時、測量下一樣品；

（6）標(biao)準加入法(fa)：軟件要有標(biao)準加入法(fa)，以便(bian)在不同條件和應用(yong)中下使(shi)用(yong)；

（7）分析模式：軟件默認*分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模 式，單位任選等多種功能；

（8）歷史數據庫(ku)：在歷史數據庫(ku)中，可以同時可選擇性地打印(yin)想要打印(yin)的批次分析(xi)結果；

（9）數據輸出：軟件支持激光打印(yin)機打印(yin)分析結果。

（10）語言：可中英文雙語