北京ICP光譜儀作(zuo)為一種大型精密無機分(fen)析(xi)儀器，廣泛(fan)應用于(yu)稀土、貴金(jin)屬、合金(jin)材(cai)料、電子產品、醫藥衛生、冶金(jin)、地質(zhi)、石油、化工、商檢、環保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬(mu)等(deng)行業分(fen)析(xi)檢測(ce)，可對(dui)待測(ce)樣品進(jin)行定(ding)性或從超(chao)微量到常量的(de)定(ding)量分(fen)析(xi)。是集光(guang)、機、電、計算機、分(fen)析(xi)技(ji)術(shu)于(yu)一體的(de)技(ji)術(shu)產品，具有測(ce)試速度快(kuai)、測(ce)量范圍寬(kuan)、分(fen)析(xi)結(jie)果準確可靠等(deng)特點。
      公司生產的HK-2000和HK-8100系列北京ICP光譜儀，是我司在傳統技術的基礎上，吸收技術成果研究開發的高精度、高靈敏度的，具有分析速度快、穩定性高等*優勢。由于采用了計算機技術，儀器的智能化、屏幕顯示的圖、文及數據的采集、處理等都達到了目前*水平，是諸多行業理想的分析儀器。通過多年的精心努力，我司產品已獲得國內外眾多客戶的信任，尤其是在稀(xi)土、釹鐵硼、鎢鉬、鉭鈮、鋯鉿(jia)、碲(di)、錫(xi)料(liao)、硅、有色金(jin)屬、飽(bao)和(he)氯化鈉溶液、電池(chi)材料(liao)行業得到廣泛認可，并成功出口俄羅斯、非洲、南(nan)美、中(zhong)南(nan)亞等(deng)國家和(he)地(di)區(qu)。　　

一、儀(yi)器整機主要性(xing)能參數：

1、波長范圍：180-800nm（2400刻線/mm）或180-500nm（3600刻線/mm）

2、分辨率：在180-500nm整(zheng)個波段(duan)內分辨率≤0.006nm

3、波(bo)長(chang)示(shi)值(zhi)誤差和重復(fu)性：波(bo)長(chang)示(shi)值(zhi)誤差≤0.02nm，重復性≤0.003nm

4、掃描(miao)步距：可達0.0004nm

5、精密度：RSD≤1.5%

6、穩定性(xing)：RSD≤2.0%

7、檢出限：PPb級

8、分析元素(su)范圍：可對(dui)72種金(jin)屬(shu)元素和部分非(fei)金(jin)屬(shu)元素（如(ru)B、P、Si、Se、Te）進行定(ding)量和(he)定(ding)性分析

9、線性范圍：7個數量級(ji)以上。

10、分(fen)析速度(du)：每分(fen)鐘(zhong)掃描20個(ge)元(yuan)素以上(shang)

11、等級(ji)證(zheng)書：國家計量(liang)器具形式(shi)許可A級

二、儀器各部件詳細參數：

射(she)頻(pin)發生器（RF）

（1）電(dian)路(lu)類型：電(dian)感(gan)反(fan)饋(kui)自(zi)激式振蕩電(dian)路(lu)、同軸電(dian)纜輸(shu)出、匹配調諧、取功率反(fan)饋(kui)信號，進(jin)行閉環自(zi)動控(kong)制

（2）工作(zuo)頻(pin)率(lv)：40.68MHz ± 0.05%

（3）頻(pin)率穩定性：≤0.05%

（4）輸(shu)出功率：800—1500W，自(zi)動調整

（5）輸出功率穩(wen)定(ding)性：≤0.3%

（6）電磁場泄漏(lou)射強度：距機身20cm 處，電場強度E：＜2 V / m

進樣裝置

（1）輸出工(gong)作(zuo)線圈：內徑25mm 、3匝

（2）炬管：三同心型，外(wai)徑(jing)20mm的石英炬管(guan)

（3）同軸(zhou)型噴霧器：外徑6mm

（4）雙筒型(xing)霧室：外徑34mm 

（5）觀測(ce)位置：縱向觀察高低和橫向觀察前后，可通過軟件直觀地調為*

（6）氬氣流量計規格和(he)載氣壓力表規格：

1、等離子(zi)氣(qi)流量計：(100－1000)L/h    (1.6－16L/min)

2、輔助氣流量計：(10－100)L/h      (0.16－1.66L/min)

3、載(zai)氣流(liu)量(liang)計：(10－100)L/h      (0.16－1.66L/min)

4、載氣(qi)穩壓(ya)閥：(0－0.4Mpa)L/h

5、冷卻(que)水：水溫：21－26℃ 流量＞5L/min 水壓＞0.1Mpa 冷卻水：電阻率＞1MΩ

分光(guang)器(qi)

（1）光路：Czerny－Turner

（2）焦距：1000mm

（3）光柵規格：離子刻蝕全(quan)息光柵；刻線密(mi)度3600線(xian)/mm，刻線面積(ji)：80×110mm

     (或(huo)刻線密(mi)度2400線/mm，刻線面(mian)積：80×110mm)

（4）線色散(san)率倒數：0.26nm/mm

（5）分(fen)辨率：≤0.007nm（整個波段）

（6）掃描(miao)波(bo)長(chang)范圍： 180-500nm，3600刻線/mm；

                    180-800nm，2400刻線/mm

（7）掃描步距：0.0004nm

（8）出射、入射狹縫(feng)：20μm×25μm

（9）反射鏡規格：（78×105×16）mm

（10）透(tou)鏡(jing)：φ30，1:1成(cheng)像

（11）反射鏡規格：凹型

（12）分光(guang)器(qi)恒溫裝置：34℃±0.5℃

測光裝置

（1）光電(dian)倍增管規格：日本高效R212UH或(huo)R928

（2）光電倍(bei)增管負(fu)高壓：200-1000V，自動調節，穩定(ding)性＜0.01%

（3）光(guang)電倍增管電流測(ce)量范圍：10^-4~10^-9A

（4）信號采集(ji)為(wei)V/F交換：1mV對應100Hz

（5）采樣電(dian)路(lu)：使用國外高精(jing)密度(du)運(yun)算(suan)放(fang)大器，使儀器的(de)靈敏度(du)和(he)精(jing)確度(du)大大提高

（6）儀器數據采集：通過串(chuan)口與(yu)電(dian)腦連(lian)接(jie)(jie)，從而(er)簡化了電(dian)路使(shi)連(lian)接(jie)(jie)更加便捷

（7）測(ce)光方(fang)式(shi)：單(dan)、多元素順(shun)序測(ce)量(liang)