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等離子發射光譜儀

簡要描述:

等離子發(fa)射光譜儀(yi)作(zuo)為一(yi)種大(da)型(xing)精密無機分析(xi)儀(yi)器,廣(guang)泛應用于稀土、貴(gui)金屬、合金材料、電子產品、醫藥衛生、冶(ye)金、地質、石油(you)、化(hua)工、商檢、環保以(yi)及釹鐵(tie)(tie)硼、硅、硅鐵(tie)(tie)、鎢、鉬等行業(ye)分析(xi)檢測,可(ke)對待測樣品進行定性或從超微量(liang)(liang)到常量(liang)(liang)的定量(liang)(liang)分析(xi)。是集光、機、電、計算機、分析(xi)技術(shu)于一(yi)體的技術(shu)產品,具(ju)有測試(shi)速度快、測量(liang)(liang)范圍寬、分析(xi)結果準確可(ke)靠等特點。

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等離子發射光譜儀

北京華科易通分析儀器有限公司是電感耦合等離子發射光譜儀的專業制造廠商。它是集科研、生產、銷售、技術服務于一體的高科技企業。HK-2000型電感耦合等離子發射光譜儀,是我公司在(zai)現(xian)有技(ji)術(shu)的(de)基礎上,吸(xi)收技(ji)術(shu)成(cheng)果研制開發的(de)產品(pin)。

       ICP作為一種大型精密無機分(fen)(fen)析(xi)儀(yi)器,廣泛應(ying)用(yong)于稀土分(fen)(fen)析(xi)、貴金(jin)(jin)屬分(fen)(fen)析(xi)、合金(jin)(jin)材料、電子產(chan)品、醫(yi)藥衛生(sheng)、冶金(jin)(jin)、地(di)質、石油、化工等行業,以(yi)及商檢(jian)、環保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬(mu)等行業,出色地(di)完成從超微(wei)量(liang)到(dao)常量(liang)的定性(xing)或定量(liang)分(fen)(fen)析(xi)。

它是(shi)(shi)集光、機、電、計(ji)算(suan)機、分析(xi)技(ji)(ji)術于一(yi)體的(de)(de)技(ji)(ji)術產品,具有(you)測試速度快、測量(liang)范圍寬、分析(xi)結果準確、可(ke)靠等特點。由于采用了(le)(le)計(ji)算(suan)機技(ji)(ji)術,儀器實現了(le)(le)高度智能化,從分析(xi)處理(li)到(dao)數據采集等環節都達(da)到(dao)了(le)(le)目前(qian)*水平,是(shi)(shi)一(yi)種十分理(li)想的(de)(de)分析(xi)儀器。

公司以(yi)一批(pi)多年(nian)積累(lei)的(de)技術成果和(he)實力雄厚的(de)科研隊伍為后盾,以(yi)其豐(feng)富的(de)工作經驗和(he)和(he)完善(shan)熱情的(de)服務為保障,竭誠為社會提供高精度、高靈敏度和(he)高穩定性的(de)等(deng)離子體發射(she)光譜儀產品。

1.    光譜儀主要特點

  • 優良的光學系統,先進的控制系統:保證定位準確,信背比優良;                                            
  • 采用進口的關鍵部件:確保儀器的精確度和靈敏度;
  • 極小的基體效應:99%的試樣不用分離基體;
  • 測量范圍寬:超微量到常量的分析;
  • 良好的測量精度:相對標準偏差RSD≤1.50%;
  • 穩定性:相對標準偏差RSD≤2.00% ;
  • 分析速度快:每分鐘元素順序掃描zui快達25個以上;
  • 分析元素之多:可分析72種金屬元素和部分非金屬元素;
  • 可做定性或定量分析;
  • 便捷的分析軟件:基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件,使操作更加簡便容易,軟件無需安裝可直接使用,數據處理系統提供多種功能,對輸出數據可任意選擇打印。

2. 儀器組成及工作原理

    HK-2000型,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射  頻發生器、試樣引入系統、光電轉換、控制系統、數據處理系統、分析操作軟件組成

等(deng)(deng)離(li)子(zi)體(ti)是(shi)(shi)在(zai)三重(zhong)同心石英炬(ju)管(guan)(guan)(guan)中(zhong)(zhong)產生(sheng)(sheng)(sheng)(sheng)。炬(ju)管(guan)(guan)(guan)內(nei)分(fen)別以(yi)切向通(tong)(tong)(tong)入氬氣,炬(ju)管(guan)(guan)(guan)上(shang)部繞有紫銅負載(zai)線圈(內(nei)通(tong)(tong)(tong)冷卻水)當(dang)高頻發(fa)生(sheng)(sheng)(sheng)(sheng)器(qi)產生(sheng)(sheng)(sheng)(sheng)的(de)高頻電(dian)(dian)流(工(gong)作頻率(lv)40.68MHz功率(lv)1kW左右)通(tong)(tong)(tong)過線圈時(shi),其(qi)周圍產生(sheng)(sheng)(sheng)(sheng)交(jiao)變磁場,使少量(liang)氬氣電(dian)(dian)離(li)產生(sheng)(sheng)(sheng)(sheng)電(dian)(dian)子(zi)和(he)離(li)子(zi),在(zai)磁場作用(yong)下加速運動與其(qi)它中(zhong)(zhong)性原子(zi)碰撞,產生(sheng)(sheng)(sheng)(sheng)更多的(de)電(dian)(dian)子(zi)和(he)離(li)子(zi),在(zai)炬(ju)管(guan)(guan)(guan)內(nei)形(xing)成渦流,在(zai)電(dian)(dian)火花(hua)作用(yong)下形(xing)成等(deng)(deng)離(li)子(zi)炬(ju)(即等(deng)(deng)離(li)子(zi)體(ti)),這種等(deng)(deng)離(li)子(zi)體(ti)溫度可達8000K以(yi)上(shang)。待測(ce)水溶液經噴霧器(qi)形(xing)成氣溶膠進(jin)(jin)入石英炬(ju)管(guan)(guan)(guan)中(zhong)(zhong)心通(tong)(tong)(tong)道。原子(zi)受到(dao)外界能量(liang)的(de)作用(yong)下,使原子(zi)電(dian)(dian)離(li),即處(chu)于(yu)激發(fa)態的(de)原子(zi)十分(fen)不穩定(ding)。從較高能級躍(yue)遷(qian)到(dao)基態,將釋放出(chu)能量(liang)。這種能量(liang)是(shi)(shi)以(yi)一定(ding)波(bo)長的(de)電(dian)(dian)磁波(bo)的(de)形(xing)式輻射出(chu)去。不同元(yuan)(yuan)素產生(sheng)(sheng)(sheng)(sheng)不同的(de)特(te)征(zheng)光(guang)譜(pu)。這些(xie)特(te)征(zheng)光(guang)譜(pu)通(tong)(tong)(tong)過透鏡射到(dao)分(fen)光(guang)器(qi)中(zhong)(zhong)的(de)光(guang)柵上(shang),分(fen)光(guang)后的(de)待測(ce)元(yuan)(yuan)素特(te)征(zheng)譜(pu)線光(guang)強(qiang),通(tong)(tong)(tong)過計算由步進(jin)(jin)電(dian)(dian)機(ji)(ji)轉動光(guang)柵傳動機(ji)(ji)構,準確定(ding)位于(yu)出(chu)口狹縫處(chu),光(guang)電(dian)(dian)倍增(zeng)管(guan)(guan)(guan)將該譜(pu)線光(guang)強(qiang)轉變為光(guang)電(dian)(dian)流,再經電(dian)(dian)路處(chu)理和(he)V/F轉換后,由計算機(ji)(ji)進(jin)(jin)行(xing)數據處(chu)理,zui后由打印(yin)機(ji)(ji)打出(chu)分(fen)析結果(guo)。

3.光譜儀主要技術指標

   掃描(miao)范(fan)圍(wei)(wei) :光柵3600條刻線/mm,掃描(miao)范(fan)圍(wei)(wei)(190~500)nm

             ;     光柵2400條刻線/mm,掃描范圍(190~800)nm

  波長示值誤差:±0.03nm,重復性≤0.005nm。

zui小(xiao)光譜帶寬:Mn 257.610nm,譜線峰半高寬≤0.008nm。

重復性:相對標準偏差 RSD≤1.50%

穩定性:相對標準偏差 RSD≤2.00%

① 具有多元素(su)同時檢測能力(li)。可同時測定一個樣(yang)品(pin)中的多種元素(su)。

② 分析(xi)速度快(kuai)。可在幾分鐘(zhong)內同時對幾十種元素進行定(ding)量分析(xi)。

③ 檢出限(xian)低。一般光源(yuan)可達(da)10~0.1mg/mL, 電感耦合(he)高頻(pin)等(deng)離子(zi)體原子(zi)發射光譜(ICP-AES)檢出限(xian)可達(da)ng/mL級。

 ④準(zhun)確度較高。一般光(guang)源相對誤差(cha)約(yue)為(wei)5%~10%,ICP-AES相對誤差(cha)可達l%以下(xia)。

 ⑤試樣消(xiao)耗少(shao)。

 ⑥ ICP光源校準曲(qu)線線性范圍寬(kuan)可達(da)4~6個(ge)數量級。

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