北京ICP發射光譜儀作為一種(zhong)大型精(jing)密無機分析(xi)儀器，廣泛應用(yong)于稀土、貴金屬、合金材料、電子(zi)產品(pin)(pin)、醫(yi)藥(yao)衛生、冶金、地質、石(shi)油、化(hua)工、商檢(jian)、環保以及釹(nv)鐵硼(peng)、硅、硅鐵、鎢(wu)、鉬等行(xing)業分析(xi)檢(jian)測，可對待(dai)測樣品(pin)(pin)進行(xing)定性或從超微量(liang)到常量(liang)的定量(liang)分析(xi)。

     北京ICP光譜(pu)儀作為一(yi)種大(da)型精密(mi)無機分析(xi)儀器，廣泛應用于(yu)稀土、貴金(jin)屬(shu)、合(he)金(jin)材料、電(dian)(dian)子產品、醫藥衛生、冶金(jin)、地質(zhi)、石油、化工、商檢、環保以(yi)及釹鐵(tie)(tie)硼、硅(gui)、硅(gui)鐵(tie)(tie)、鎢、鉬等行(xing)業分析(xi)檢測(ce)(ce)，可(ke)對待測(ce)(ce)樣品進行(xing)定(ding)性或(huo)從超微量到常量的定(ding)量分析(xi)。是集(ji)光(guang)、機、電(dian)(dian)、計算機、分析(xi)技術于(yu)一(yi)體的技術產品，具有測(ce)(ce)試速度快、測(ce)(ce)量范(fan)圍寬、分析(xi)結果準(zhun)確(que)可(ke)靠等特點。
      公(gong)司生產的HK-2000和(he)HK-8100，HKYT-799系列北京(jing)ICP發射光譜儀，是我司(si)在傳(chuan)統(tong)光譜儀技術的基礎上(shang)，吸收技術成果研究開(kai)發(fa)的高精度、高靈敏度的發射(she)光譜儀，具有(you)分析速度快(kuai)、穩定性高等*優勢(shi)。由于采用了計(ji)算(suan)機技術，儀器的智能化(hua)(hua)、屏(ping)幕(mu)顯(xian)示的圖、文及數據的采集、處理等都達到(dao)了目前*水平，是諸(zhu)多行業理想的分析儀器。通(tong)過(guo)多年的精心努力，我司產品(pin)已(yi)獲得國內外眾多客(ke)戶(hu)的信任，尤其是在稀土、釹(nv)鐵硼、鎢鉬、鉭(tan)鈮、鋯鉿、碲(di)、錫(xi)料(liao)、硅、有(you)色金屬、飽和氯化(hua)(hua)鈉溶(rong)液、電池(chi)材料(liao)行業得到(dao)廣泛認可，并成功出(chu)口俄(e)羅斯、非(fei)洲(zhou)、南美、中南亞等國家和地區。　　

一、儀器整機主要性能參數：

1、波(bo)長(chang)范圍：180-800nm（2400刻線/mm）或180-500nm（3600刻線/mm）

2、分辨(bian)率：在180-500nm整個波段內分辨(bian)率≤0.006nm

3、波長(chang)示值誤(wu)差和重復性：波長(chang)示值誤(wu)差≤0.02nm，重復性≤0.003nm

4、掃(sao)描(miao)步距：可(ke)達0.0004nm

5、精密度(du)：RSD≤1.5%

6、穩定性：RSD≤2.0%

7、檢出(chu)限：PPb級

8、分析(xi)元素(su)范圍：可對72種(zhong)金(jin)屬元素(su)和部分非金(jin)屬元素(su)（如B、P、Si、Se、Te）進行(xing)定量和定性(xing)分析(xi)

9、線性(xing)范圍(wei)：7個數(shu)量級(ji)以上。

10、分析(xi)速度：每分鐘掃描20個(ge)元素(su)以上

二、儀器各部件(jian)詳細參數：

射(she)頻發生(sheng)器(qi)（RF）

（1）電(dian)路(lu)類型：電(dian)感(gan)反饋自激式振蕩電(dian)路(lu)、同軸電(dian)纜(lan)輸(shu)出、匹配調(diao)諧、取功率反饋信號，進(jin)行閉(bi)環自動控 制

（2）工作頻率：40.68MHz ± 0.05%

（3）頻率穩定(ding)性(xing)：≤0.05%

（4）輸出(chu)功率：800—1500W，自動調整

（5）輸出功率穩定性：≤0.3%

（6）電(dian)磁(ci)場泄(xie)漏射強度：距機身(shen)20cm 處，電場(chang)強度E：＜2 V / m

進(jin)樣裝置

（1）輸出工作線圈(quan)：內徑25mm 、3匝

（2）炬管：三(san)同心型，外(wai)徑(jing)20mm的石英炬管

（3）同軸型噴霧器(qi)：外徑6mm

（4）雙筒(tong)型霧(wu)室：外徑34mm 

（5）觀測位置(zhi)：縱(zong)向(xiang)觀察(cha)高(gao)低(di)和橫向(xiang)觀察(cha)前后(hou)，可通過軟件直觀地調為(wei)佳(jia)

（6）氬氣流量計規(gui)格和(he)載氣壓力(li)表規(gui)格：

1、等離子(zi)氣(qi)流量計：(100－1000)L/h   ; (1.6－16L/min)

2、輔助氣(qi)流量計：(10－100)L/h      (0.16－1.66L/min)

3、載氣流量計：(10－100)L/h      (0.16－1.66L/min)

4、載氣穩(wen)壓閥(fa)：(0－0.4Mpa)L/h

5、冷(leng)卻水：水溫：21－26℃ 流量＞5L/min 水壓＞0.1Mpa 冷卻水：電阻(zu)率(lv)＞1MΩ

分光器

（1）光路：Czerny－Turner

（2）焦距(ju)：1000mm

（3）光(guang)柵規(gui)格(ge)：離子刻蝕(shi)全息光(guang)柵；刻線密(mi)度3600線/mm，刻線面積：80×110mm

  (或刻線(xian)密度2400線(xian)/mm，刻線(xian)面積：80×110mm)

（4）線色散(san)率倒數：0.26nm/mm

（5）分辨(bian)率(lv)：≤0.007nm（整個(ge)波段）

（6）掃(sao)描(miao)波(bo)長范(fan)圍(wei)： 180-500nm，3600刻線/mm；

           180-800nm，2400刻線/mm

（7）掃描(miao)步距(ju)：0.0004nm

（8）出射(she)、入射(she)狹(xia)縫：20μm×25μm

（9）反射鏡規格(ge)：（78×105×16）mm

（10）透(tou)鏡：φ30，1:1成像

（11）反射鏡(jing)規格：凹(ao)型

（12）分光器恒溫裝置：34℃±0.5℃

測光裝置(zhi)

（1）光(guang)電倍(bei)增管規格(ge)：日本(ben)高效R212UH或R928

（2）光電倍增管負高壓：200-1000V，自動調節(jie)，穩定性＜0.01%

（3）光電倍增管電流測量范圍：10^-4~10^-9A

（4）信號采(cai)集(ji)為V/F交(jiao)換：1mV對應100Hz

（5）采樣電路：使用國外高(gao)精密度運算放大器，使儀器的靈敏度和(he)度大大提高(gao)

（6）儀器數據采集：通過串口與(yu)電腦連接(jie)，從而(er)簡(jian)化了電路使連接(jie)更加便捷

（7）測(ce)光方式：單、多元素順序測(ce)量